我国科学家开发出新式芯片在答应电压下不导电的资料“人工蓝宝石”:1nm厚度也能绝缘
发布时间: 2024-09-10 作者: EMI屏蔽吸收材料

  快科技8月8日音讯,作为组成芯片的根本元件,晶体管的尺度跟着芯片缩小不断挨近物理极限,其间发挥着绝缘效果的栅介质资料非常要害。

  中国科学院上海微体系与信息技术研讨所研讨员狄增峰团队开发出面向二维集成电路的单晶氧化铝栅介质资料人工蓝宝石。

  据悉,传统的氧化铝资料一般出现无序结构,这种无序会导致其在极薄层面上的绝缘功能大幅下降。

  这种资料在微观层面上的有序摆放,保证了电子在传输过程中的稳定性,使得即便在仅有1纳米的厚度下,仍然可以有用阻挠电流的走漏,然后显着提高了芯片的能效。

  据介绍,该资料已成功应用于半导体芯片制程中,结合二维资料,可制备出低功耗芯片器材。

  该研讨关于智能手机的电池续航、人工智能、物联网、5G等方面均有重要意义。